半導体製造AI

検査画像の欠陥パターンを分類し、装置ログ・レシピ条件と突き合わせて歩留まり低下の発生源を絞り込みます。前工程の微小な条件変動まで遡って追跡し、AIインフラ需要に応える増産体制を支えます。